La spectroscopie de photoélectrons induits par rayons X (XPS) est une technique non destructive utilisée pour caractériser les surfaces de divers matériaux (composés inorganiques, organiques, semi-conducteurs, matériaux naturels (lignocellulose) et synthétiques (céramiques méso et microporeuses). Cette technique permet d’analyser la couche externe des matériaux (1 à 10 nm; 30 couches atomiques) en irradiant la surface avec un faisceau de rayon X et en mesurant l’énergie cinétique des électrons émis. Cette technique permet de déterminer: 1) la composition chimique des surfaces des matériaux (identification des éléments); 2) l’abondance relative de ces composants sur les surfaces (analyse semi-quantitative) et; 3) État d’oxydation des éléments de la surface (précision dépendant de la quantité et de la complexité de l’échantillon). Tous les éléments du tableau périodique (Li à U) sont détectables à l’exception de l’hydrogène et de l’hélium.