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Spectroscopie de photoélectrons induits par rayons X (XPS) KRATOS Analytical AxisUltra
Description de l’appareil et de la technique
La spectroscopie de photoélectrons induits par rayons X (XPS) est une technique non destructive utilisée pour caractériser les surfaces de divers matériaux (composés inorganiques, organiques, semi-conducteurs, matériaux naturels (lignocellulose) et synthétiques (céramiques méso et microporeuses). Cette technique permet d’analyser la couche externe des matériaux (1 à 10 nm; 30 couches atomiques) en irradiant la surface avec un faisceau de rayon X et en mesurant l’énergie cinétique des électrons émis. Cette technique permet de déterminer: 1) la composition chimique des surfaces des matériaux (identification des éléments); 2) l’abondance relative de ces composants sur les surfaces (analyse semi-quantitative) et; 3) État d’oxydation des éléments de la surface (précision dépendant de la quantité et de la complexité de l’échantillon). Tous les éléments du tableau périodique (Li à U) sont détectables à l’exception de l’hydrogène et de l’hélium.
KRATOS Analytical Axis-Ultra
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Réservation
Préparation des échantillons
Les échantillons analysés par XPS sont des solides (poudres et films) incluant les composés inorganiques, les alliages métalliques, les semi-conducteurs, les polymères, les catalyseurs, les verres, les céramiques, le bois, les biomatériaux et bien d'autres matériaux.
Une préparation adéquate des échantillons est essentielle afin de prévenir la contamination de la surface à analyser. Généralement, les échantillons sont analysés « tels quels » car tout traitement chimique peut laisser des résiduts devenant source de contamination.
La taille maximale des échantillon analysés par XPS est de 20 mm x 70 mm et jusqu'à 5 mm d'épaisseur. Les échantillons doivent être stable sous ultra-haut vide UHV (< 10-9 Torr). Des échantillons plus épais peuvent également être traités.
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